Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology: submicrometer lithographies VIII - 1-3 March 1989, San Jose, California

Författare
(Arnold W. Yanof, chair/editor.)
Genre
Konferenspublikation
Språk
Engelska
Förlag År Ort Om boken ISBN
Cop. 1989 USA 388 sidor.